精機事業

ここに、情報社会の進化を担う技術がある。

ニコンは、1980年、IC製造に不可欠な装置である半導体露光装置の第1号機を発売しました。回路パターンを縮小してウェハに露光する半導体露光装置は、超高解像の投影レンズ、極めて精密な駆動や緻密な制御などから「史上もっとも精密な機械」といわれています。ICの高性能化、高集積化には回路パターンの微細化が重要です。微細化のために、ニコンは、投影レンズの解像力を極限まで高め、さらに、投影レンズとウェハの間に純水を満たして高NAを実現する液浸露光技術や、高い重ね合わせ精度と高生産性の両立を可能としたストリームラインプラットフォームなど、数多くの画期的な技術を開発してきました。
また、需要が拡大しているスマートフォンやタブレット端末用の高精細・中小型パネル、有機ELパネルの製造のための液晶露光装置を提供しています。さらに、大画面化が進む液晶テレビ用液晶パネルの製造にも、ニコン独自のマルチレンズシステムで対応しています。


ArF液浸スキャナーNSR-S621D


液晶露光装置FX-803M/903N


液晶露光装置FX-101S