マルチプルパターニング対応、超高精度・高スループット液浸露光装置

ニコン ArF液浸スキャナー「NSR-S631E」を発売

2016年2月18日PRESS RELEASE/報道資料

株式会社ニコン(社長:牛田 一雄、東京都港区)は、最新型 ArF液浸スキャナー「NSR-S631E」の販売を開始しました。本製品は、NSR-S630D同様に高い精度と生産性で定評のあるストリームラインプラットフォームを採用し、7ナノメートルノードプロセスの半導体量産用(マルチプルパターニング対応)として開発された露光装置です。マルチプルパターニングプロセスにおいて最も重要となる重ね合わせ精度を向上させたことにより、お客様の安定的量産のニーズに応えます。

  • マルチプルパターニング:1つの回路パターンを、現行の液浸露光機で転写できる2つ以上の密集度の低いパターンに分割露光し、これらのパターンを組み合わせて、最終的に密集度を高めることを可能とする手法。
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ArF液浸スキャナー「NSR-S631E」

商品概要

商品名 ArF液浸スキャナー「NSR-S631E」
販売開始時期 2016年1月より

開発の背景

半導体の高集積化・微細化の進展に伴い、現在の最先端の半導体は、10ナノメートルノードプロセスの量産、及び、7ナノメートルノードプロセスの開発へと移行しています。リソグラフィにおける回路パターンの微細化には、引き続きArF液浸露光装置によるマルチプルパターニング技術が必要であり、露光装置にはより高い重ね合わせ精度と高生産性が要求されています。
NSR-S631Eは、新型投影レンズ、アライメントシステムのマーク検出・計測能力の強化によりMMO 2.3ナノメートル以下、スループット毎時270枚以上(96 shots)(オプション対応)の生産性を実現します。

主な特長

1. ストリームラインプラットフォームを搭載

2. オンプロダクト性能の向上

本製品で搭載した新型投影レンズにおいては、収差補正機能をさらに強化することにより、結像性能のより高い安定性を実現しました。
また、新規設計の計測光学系の導入により、実プロセスでのアライメント・フォーカス精度を向上しました。

主な性能

解像度 38 nm以下
NA(開口数) 1.35
光源 ArFエキシマレーザー
(波長:193 nm)
縮小倍率 1/4倍
最大露光領域 26 x 33 mm
重ね合わせ精度(M + 3σ) SMO※1 1.7 nm以下
重ね合わせ精度(M + 3σ) MMO※2 2.3 nm以下
スループット
300mmウェハ毎時(96 shots)
250枚以上
270枚以上(オプション)

こちらに掲載されている情報は、発表日現在の情報です。販売が既に終了している製品や、組織の変更等、最新の情報と異なる場合がありますのでご了承ください。