Global 450 Consortiumから450mmウエハー対応液浸露光装置を受注

2013年7月4日PRESS RELEASE/報道資料

株式会社ニコン(社長:木村眞琴 東京都千代田区)は、Research Foundation for the State University of New York(ニューヨーク州立大学の研究財団、SUNY研究財団)との間で、プロセス開発向け450mmウエハー対応ArF液浸露光装置の販売とウエハーパターニングの受託について契約を締結し、受注致しました。
装置の出荷は、2015年4月を予定しています。

この450mmウエハー対応ArF液浸露光装置は、College of Nanoscale Science and Engineering(以下CNSE)に本部を置くGlobal 450 Consortium(以下G450C)の会員企業によって、プロセス開発、評価、デモンストレーション等に使用されることになります。ニコンもエンジニアを現地に派遣して、リソグラフィーに関するソリューションを提供致します。450mmプロセス開発の機会をG450Cへ早期に提供することにより、450mmウエハー対応ArF液浸露光装置の業界標準化を目指します。

G450Cは、ニューヨーク州知事Andrew M. Cuomo氏によってCNSEのAlbany NanoTech Complexに設立することが2011年9月に発表されたものであり、次世代半導体デバイス技術に関わる世界的な先進企業5社(Intel、IBM、GLOBALFOUNDRIES、TSMC、Samsung)によって構成されています。G450Cの目的は、半導体製造工程における重要な転換点となる300mmウエハーから450mmウエハーへの移行が円滑に進むようサポートすることであり、Albany NanoTech Complexに最先端のインフラを構築して450mmウエハー対応装置の能力とプロセスを実証してゆく計画です。

今回の450mmウエハー対応ArF液浸露光装置の受注は、先般の大手デバイスメーカーからの受注に次ぐもので、ニコンの装置開発が評価され、確実に信頼を得た結果であると考えています。これにより2017年の量産装置出荷に向けて、今後、他デバイスメーカーから同装置の受注拡大が期待されます。

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