ニコンArF液浸スキャナー「NSR-S620」の発売について

ダブルパターニング量産対応の新型ArF液浸スキャナー開発

2008年11月12日PRESS RELEASE/報道資料

株式会社ニコン（社長　苅谷道郎）は、ダブルパターニング^※を用いた量産プロセスに対応する液浸スキャナー「NSR-S620」を2009年第4四半期にお客様へ提供します。
NSR-S620はこれまでNSR-S609B及びNSR-S610Cで培ったニコンの液浸技術「ローカルフィルノズル」と「タンデムステージ」をさらに進化させ、高精度と高スループットを両立させる画期的なプラットフォームに搭載することにより、ダブルパターニングの量産プロセスにおけるお客様のニーズに応えてまいります。

※ダブルパターニングとは、1つの回路パターンを、現行の液浸露光機で転写できる2つの密集度の低いパターンに分割し露光する技術で、この2つのパターンを組み合わせて、最終的に密集度を高めることが可能となります。

半導体生産においては、40～45ナノメートル世代の量産対応技術として既に液浸技術が確立されておりますが、32ナノメートル世代以降のさらなる微細化に応える技術としてダブルパターニングが最も期待されております。
しかし、ダブルパターニングでは2回の露光が必要となることから、量産プロセスへの導入に際しては、重ね合わせ精度とスループットの大幅な向上が露光装置の課題とされていました。今回発売するNSR-S620はこれらの厳しい要望を満たすことにより、お客様に効率的なダブルパターニングのソリューションを提供するものです。