コンパクトで高性能、コストパフォーマンスに優れた投影方式の露光装置縮小投影露光装置「NES1-h02」の受注開始について
2007年12月12日

株式会社ニコン(社長:苅谷道郎)の子会社、株式会社ニコンエンジニアリング(社長:永田浩)は、磁気ヘッドのABS加工、LEDパターンニングや各種MEMSデバイス製作などで使用されるレチクル像を精密に縮小投影して、微細パターンを形成するための縮小投影露光装置「NES1-h02」の受注を12月より開始しました。
発売概要
| 商品名 | 縮小投影露光装置「NES1-h02」 |
|---|---|
| 価格 | 1億1,000万円~(税込1億1,550万円~)(標準仕様) |
| 受注開始時期 | 2007年12月 |
| 販売予定数 | 初年度 10台 |
開発の背景
磁気ヘッドのABS加工(磁気ディスクに対する磁気ヘッドの浮上量を制御するための微細パターン加工)は、ハードディスクドライブの記憶容量の大容量化や価格低下に伴い、高精度化とコストダウンが強く求められており、製造工程においては、高性能で汎用性、コストパフォーマンスに優れた露光装置が必要となってきています。
また、近年進展が著しいLED、各種MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)デバイス製作においては、研究・開発を目的とした操作性の優れたコストパフォーマンスの高い露光装置や量産を目的としたトータルスループットの向上が求められています。
株式会社ニコンエンジニアリングでは、1995年8月より、磁気ヘッドのABS加工用の露光装置「PrAシリーズ」を、また2004年4月よりさらに高精度の露光装置「PrAIIシリーズ」を発売し、高い評価を得てきました。
今回受注を開始した縮小投影露光装置「NES1-h02」を含めた「NESシリーズ」は、従来の「PrA・PrAIIシリーズ」で培った技術をベースに、磁気ヘッドのABS加工はもとより、LED、各種MEMSデバイスの微細加工に対応するために、新たに開発した露光装置です。
主な特長
- スループットを飛躍的に向上
ステージ制御方式の見直しによるさらなる高速化、新設計の非常に明るい照明系の採用による投影面照度アップなど、基本性能を大幅に改良した結果、トータルスループットが大きく向上しました。
- 新開発の投影レンズを搭載
NA(開口数)0.16、φ11mmと、これまでより露光エリアの大きな新開発の投影レンズを搭載しました。オフアクシスアライメント方式の採用により、投影レンズの解像力などの光学特性も向上しました。さらに設計自由度を確保することにより、お客様のご希望に応じたカスタム仕様の投影レンズ製作対応が可能です。
- アライメント精度の向上
新開発の専用アライメント光学系、独自の高安定性機構をオフアクシスアライメント方式に採用し、制御系の最適化、ボディの高剛性化により、これまでと同等以上のアライメント精度を達成しました。また、TTR(Through The Reticle)方式と比較して、レチクルデザインの制約が少なくなりました。
- イージーオペレーション
基本ソフトにWindows XPを採用し、良好な操作性を実現しました。オペレータモード、エンジニアモードの切り替えにより、基本操作から高度な操作まで容易に習得できます。露光装置「PrA・PrAIIシリーズ」と同様のメニュー構成により、同シリーズをすでにお使いいただいているお客様にも違和感なく操作いただけます。
- ※Windowsは米国Microsoft Corporationの米国およびその他の国における登録商標です。
- コンパクトなサイズで省スペース
露光装置「PrAシリーズ」と同様、非常にコンパクトな設計です。
- 設置、立ち上げ時間を短縮
設置から立ち上げまで特別な調整作業が不要で、短期間でのライン導入が可能です。
主な仕様
縮小投影露光装置「NES1-h02」
| 解像度 | 2.5μm |
|---|---|
| 投影レンズ縮小倍率 | -1/5倍 |
| NA(開口数) | 0.16 |
| 露光範囲 | φ11mm |
| 露光波長 | 405nm |
| アライメント精度 | 1μm以下 |
| 試料サイズ | φ4in.(100mm) |
| 寸法(W×D×H)・質量 | 本体:950×1450×2100mm・1250kg ラック:570×810×2070mm・180kg |
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