PRESS RELEASE/報道資料

タンデムステージの搭載で20％の生産性向上を実現ニコンArFスキャナー「NSR−S310F」KrFスキャナー「NSR−S210D」の発売について

2007年7月11日

　株式会社ニコン（社長：苅谷道郎）は、先端技術と高生産性に主眼を置き、量産対応のドライ最新機種であるArFスキャナー「NSR-S310F」とKrF スキャナー「NSR-S210D」を開発しました。両装置はArF液浸スキャナーで開発したタンデムステージ・プラットフォームを採用することにより、高い生産性と高度なアライメント性能を実現しています。S310Fの販売は2007年4Qより開始、S210Dの販売は2008年1Qに開始します。

商品名	ニコンArFスキャナーNSR-S310F ニコンKrFスキャナーNSR-S210D
販売開始時期	2007年4Q（10-12月）NSR-S310 2008年1Q（1- 3月）NSR-S210D

　IT革命の根幹を担う超LSIの高集積化が進み、半導体業界は45ナノメートルルールのデバイス開発に移行しています。最もクリティカルなレイヤはArF液浸スキャナーで露光しますが、それ以外のクリティカルレイヤやノンクリティカルレイヤの多くは通常ドライのArF、KrFスキャナーで露光します。
　NSR-S310Fは、65ナノメートル以下のデバイス量産に対応した最先端ArFスキャナーです。同装置は、ニコンの独自技術としてArF液浸スキャナーで実績のあるタンデムステージを採用することによりスループットを増加させるとともに、アライメント精度を向上させ、長期安定性を高めています。
スループットは当社従来機種比で20%向上し、毎時174枚を達成、CoO（Cost of Ownership）を大幅に削減しました。また、タンデムステージの採用によりアライメント精度も7ナノメートル以下にまで改善されました。
　NA0.92の投影光学系と照明系により、優れた結像性能とウェハ全面にわたる高度な線幅制御を実現し、収差量およびフレア量とも業界での最小値を達成しています。
　ニコン独自の偏光照明POLANO（第4世代）とオプションの^※赤外線収差制御（IAC）により、さらに優れた結像性能が得られます。

• ※IAC (Infrared Aberration Control)

　NSR-S210Dは、110ナノメートルまでのレイヤの露光を対象に設計されています。スループットは毎時176枚で、アライメント精度は9ナノメートルです。
　NSR-S310FとNSR-S210Dの開発により、ニコンのスキャナー全機種が共通プラットフォーム上で構築され製造効率が向上し、ランニングコストの削減が可能となります。タンデムステージのプラットフォーム設計は、デバイスメーカーにとって益々重要になってきた顧客先での据付時間の短縮にも寄与いたします。またソフトウェアを共通化することでフィールドでのサポートの簡略化も併せて実現しております。

　これら新機種スキャナーのリリースにより、ニコンはスキャナー全機種を新世代タンデムステージプラットフォームへと移行して高い生産性と精度を実現します。今年2月に世界初のNA1.30のArF液浸スキャナーを出荷したこととあわせ、優位性をさらに進展させたと認識しています。

1. ニコンの独自技術であるタンデムステージを採用し、高スループット、高精度を実現

   　ニコン独自のタンデムステージは、露光ステージと計測ステージから構成されており、毎時174枚以上という高スループットを実現、高頻度で行われるキャリブレーションにより装置安定性も高まります。

2. 卓越した結像性能

   　ニコン独自の投影光学系と照明系により、優れた結像性能が得られ、フレアも少なく温度変化にも影響を受けにくい光学系を構築しており、更にNSR- S310Fに標準装備されている偏光照明POLANOとオプションの赤外線収差制御（IAC）により、結像性能をより高めることに成功いたしました。

3. 優位性を持つCoO（Cost of Ownership）

   　量産で実績を積んだ結像技術と高スループットのタンデムステージが、CoOの削減に寄与します。

• こちらに掲載されている情報は、発表日現在の情報です。販売が既に終了している製品や、組織の変更等、最新の情報と異なる場合がありますのでご了承ください。

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