PRESS RELEASE/報道資料

大手半導体メーカーが、45ナノメートルノードの量産にニコンの液浸スキャナーを採用ニコン、世界で初めて45ナノメートル対応の液浸装置を出荷

2007年2月28日

　株式会社ニコン（社長　苅谷道郎）は2007年2月、世界で初めて45ナノメートル量産対応の液浸露光装置を出荷しました。業界最大のNA1.30の投影光学系を搭載したArF液浸スキャナー「NSR-S610C」が、大手半導体メーカーに出荷されました。同機は45ナノメートルデバイスの量産対応として開発され、32ナノメートルデバイス開発及びダブルパターニングの開発にも対応します。今回の採用は、ニコンが他社に先駆け、同機をいち早く市場に導入したこと、そして液浸起因による欠陥を完全に防ぐとともに、従来のドライタイプと同等の重ね合わせ精度を実現したニコンの液浸露光技術が認められたものです。

販売概要

商品名 ニコン液浸スキャナー「NSR-S610C」
出荷開始時期 2007年2月

　NSR-S610Cは、ニコンがこれまで培った液浸露光技術を生かし開発されました。ニコン独自のローカルフィルノズルにより、気泡やウォーターマーク、ウエハ裏面の汚れといったスキャナー起因の液浸による欠陥を完全に除去できることが実証されています。同技術により液浸用液体の蒸発を抑えることができ、重ね合わせ精度に影響する液浸起因の問題の防止において、決定的な優位性を発揮します。またニコン独自のタンデムステージは、露光とキャリブレーション機能を分担した2つのステージを利用して、高スループットと高精度を実現し、安定した露光プロセスを達成しています。

株式会社ニコン　常務取締役兼上席執行役員　精機カンパニープレジデント 牛田一雄のコメント
　「2006年はニコンの液浸事業にとって素晴らしい年となりました。1月には世界で初めて量産対応液浸装置NSR-S609B を出荷し、年間を通して大手半導体メーカー数社にニコンの装置を納入しました。そして今回も大手半導体メーカーの機種選定において競合装置メーカーを抑え、ニコンの液浸露光装置を採用していただきました。
　今回のNSR-S610C の出荷は、昨年に引き続きニコンのテクノロジー・リーダーとしての確固たる地位をより強固なものにしたと言えます。」
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