世界初　45ナノメートルノード量産対応の液浸スキャナーニコン ArF液浸スキャナー「NSR-S610C」の発売について

販売概要

開発の背景

　IT革命の根幹を担う超LSIの高集積化が進み、今日では45ナノメートルノードのデバイス開発が始まろうとしています。リソグラフィー分野においては、投影レンズとウェハの間に、純水（屈折率1.44）を満たす液浸露光技術により従来プロセスを大きく変更することなく、さらなる微細化への対応に取り組んでいます。
　NSR-S610Cは、2006年1月に出荷した世界初の量産対応　液浸スキャナーNSR-S609Bで培った液浸露光技術を生かし開発されました。ニコンの独自技術であるタンデムステージにより高スループット、高アライメント精度、安定した露光プロセスを実現しました。またニコンのローカルフィルノズルにより液浸起因による欠陥（ディフェクト）をほぼ完全に防ぐとともに、ドライと同等以上の重ね合わせ精度を実現しました。
　さらにNSR-S610Cは解像度を高める為に不可欠な偏光照明POLANOの第4世代を採用。
　NSR-S610Cを早期に導入することにより、ニコンユーザーは45ナノメートルデバイス量産をいち早く立ち上げることが出来ます。

主な性能

主な特長

1. 45ナノメートル量産に最適な解像力

   NSR-S610CはNA1.30という高NA投影レンズを搭載したことにより、k1=0.30を確保し、45ナノメートルデバイス量産におけるすべてのクリティカルレイヤーの露光に余裕を持って対応します。

   • 注結像の余裕度をあらわすk1は、線幅＝k1×(波長/NA)という式であらわされる値です。
2. 偏光照明「POLANO」とニコン独自の投影光学系による安定した結像

   照度低下無く像コントラストを著しく向上させる偏光照明「POLANO」を搭載しております。ニコン独自のNA1.30反射屈折光学系は、フレアや熱収差の問題が生じない設計・製造がなされており、安定した結像性能が得られます。

3. 液浸技術に最適なタンデムステージにより、高スループットと高精度を実現

   タンデムステージは、「露光ステージ」と「キャリブレーションステージ」の機能を分担した2つのステージから成り立ちます。タンデムステージによって液浸露光であっても毎時130枚以上の高スループットが可能になるとともに、高頻度キャリブレーションによって安定した露光プロセスを実現しました。

4. 液浸起因による欠陥（ディフェクト）フリーを実現

   ローカルフィルノズルにより、スキャナー起因で発生する気泡やウオーターマーク、液浸起因パーチクルなどの液浸固有欠陥（ディフェクト）を防ぐことができます。