PRESS RELEASE/報道資料

DUVエキシマステッパーとのミックス＆マッチに威力を発揮ニコン 縮小投影型露光装置 「NSR-SF140」の発売について

2005年7月7日

　株式会社ニコン（社長：苅谷道郎）は、次世代DRAMやMPUのノンクリティカルレイヤ露光に威力を発揮する、i線スキャンフィールドステッパー「ニコン 縮小投影型露光装置 NSR-SF140」を開発し、2005年4Qから販売を開始します。現在、最先端の半導体製造ラインで主流となっているDUVエキシマステッパーとのミックス＆マッチを優れたコストパフォーマンスで実現します。

　「NSR-SF140」は、26×33ミリメートルという広い露光領域で、280ナノメートル以下の高解像度を実現しました。

販売概要

商品名 ニコン 縮小投影型露光装置「NSR-SF140」
販売開始時期 2005年4Q

開発の背景

　ニコンは、2000年1月、DUVエキシマステッパーとのミックス＆マッチに主眼を置いたi線ステッパー「NSR-SF100」を業界に先駆けて開発しました。全レイヤの約半分を占めるノンクリティカルレイヤの露光に最適化した「NSR-SF100」は、DUVエキシマステッパーと共通化した縮小倍率と露光領域、十分な解像度や高スループットなど、コストパフォーマンスに優れた露光装置です。以来、「NSR-SF100」とその後継機は、生産性の向上と製造ラインのトータル投資コストの低減に貢献し、「SFシリーズ」としての累積販売台数は、200台を超えるに至りました。

　今回発表する「NSR-SF140」は、高N.A.縮小投影レンズ搭載により280ナノメートル以下の高解像度を実現した「NSR-SF130」をベースに、さらなるレンズ性能の向上を図りミックス＆マッチ精度を高めました。

主な性能

解像度 280nm以下
N.A.（開口数） 0.62
光源 i線（波長365nm）
縮小倍率 1/4倍
露光領域 26×33mm
アライメント精度 35nm以下（M+3σ）内容
スループット 300mmウェハ毎時117枚以上（露光量 200mJ/cm2）

主な特長

  1. 高スループット化

    　ウェハステージの軽量化、動作シーケンスの改良を行い、高スループットを実現。
    　300ミリウェハで、1時間あたり117枚以上（当社従来機種比、11%向上）のスループットを可能にしました。

  2. 広い露光領域と高解像度

    　一括露光方式でありながら26×33ミリメートルというDUVエキシマステッパーと同等の広い露光領域を実現。
    　高N.A.（0.62）縮小投影レンズの搭載により、280ナノメートル以下の高解像度を達成しました。

  3. ミックス＆マッチに最適

    　「NSR-SF140」は、レンズスキャニング方式KrFエキシマステッパー「NSR-S208D」やレンズスキャニングArFエキシマステッパー「NSR-S308F」、さらにはKrF一括型ステッパー「NSR-SF200」とオペレーションの共通化を図るなど、ミックス＆マッチにおいて優れたパフォーマンスを発揮します。
    　また、レンズ性能の向上を図り、ディストーションの低減によりミックス＆マッチの精度を大きく向上。90ナノメートルルールの量産ラインにおけるミックス＆マッチにも対応可能です。

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