像コントラストが向上し、0.5世代先の解像度を実現ニコン 縮小投影型露光装置用偏光照明「POLANO」の販売について
2004年11月30日
偏光照明「POLANO」を用いた場合のSEM写真
(60nmのライン&スペース)
株式会社ニコン（社長：嶋村 輝郎）は、像コントラストを20%向上させ、0.5世代先の解像度を実現する偏光照明「※POLANO（ポラーノ）」を開発。
2004年12月より出荷を始める最新型ArFエキシマステッパー「NSR-S308F」に、2005年春からオプション装備する予定です。偏光照明「POLANO」は、来年後半以降に出荷予定のN.A.の値が“1.0”を超すArF液浸ステッパーにも搭載可能です。
- ※POLANO : Polarization Optimization for Lithographic Advance in NSR Optics
販売概要
| 商品名 | ニコン 縮小投影型露光装置用偏光照明「POLANO（ポラーノ）」 |
|---|---|
| 価格〈税別〉 | 未定（「NSR-S308F」のオプションとして販売） |
| 販売開始時期 | 2005年春 |
開発の背景
IT革命の根幹を担う超LSIの高速化、高集積化が進み、ステッパーに搭載される投影レンズにも高N.A.化が求められています。
通常用いられている照明光は、さまざまな偏光方位を持ったランダム偏光で構成されており、像コントラストを高める特性のあるs偏光と、像コントラストを低下させてしまうp偏光が含まれています。レンズが高N.A.化するほどp偏光の弊害が増える傾向にあります。また、高コントラストな像を得ようと、単純にs偏光のみを取り出して露光した場合には、照度が不足しスループットが低下してしまいます。
今回、ニコンは偏光照明「POLANO」の開発により、照度損失無しに像コントラストを高める特性を持つs偏光に照明光を変換することに成功しました。この技術により、像コントラストは20%向上、その結果、0.5世代先のステッパーの解像度が実現可能になります。
今年10月、ArFエキシマステッパー「NSR-S307E (N.A. 0.85)」を使用して実証実験を終え、あわせて照明光の偏光度の計測技術も確立しました。さらに改良を進め、ArFエキシマステッパー「NSR-S308F (N.A. 0.92)」に2005年春からオプション装備する予定です。
さらに来年後半以降に出荷予定のArF液浸ステッパーにも搭載する予定で、像コントラスト、解像度のさらなる向上に貢献します。
主な特長
- 像コントラストを20%アップ
照度損失無しに、像コントラストを高める性質を持つs偏光に照明光を変換。
これにより、スループットを維持したまま、像コントラストは約20%アップ。
- 0.5世代先をいく限界解像度を実現
65ナノメートル以下の解像度を持つArFエキシマステッパー「NSR-S308F （N.A.0.92）」に、偏光照明「POLANO」を搭載した場合、その解像度は0.5世代分向上し60ナノメートル以下を達成。
- 回路パターンの均一性を20%アップ
像コントラストの向上により、露光マージンが拡大し、LSI製造において重要な「回路パターンの均一性（CD-Uniformity）」も約20%アップ。
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