世界初のKrFスキャンフィールド機、ArFスキャナーとのミックス&マッチに威力を発揮ニコン 縮小投影型露光装置 NSR-SF200 の発売について
2003年7月8日

株式会社ニコン(社長:嶋村 輝郎)は、次世代DRAMやMPUのミドルレイヤ露光に威力を発揮する、KrFエキシマレーザ一括型スキャンフィールドステッパー「ニコン 縮小投影型露光装置NSR-SF200」を開発し、2003年11月から販売を開始します。
販売概要
| 商品名 | ニコン 縮小投影型露光装置「NSR-SF200」 |
|---|---|
| 価格〈税別〉 | 約8.5~9.5億円(仕様・構成により異なる) |
| 販売開始時期 | 2003年11月 |
開発の背景
ニコンは、最先端半導体製造ラインにおける、レンズスキャニング方式のKrFエキシマステッパーとのミックス&マッチに主眼をおいた新コンセプトの一括型i線ステッパー「NSR-SF100」を業界に先駆け開発し、2001年1月より受注を開始。また2002年7月から解像度とスループットをさらに向上させた「NSR-SF120」の販売も始めています。
全レイヤの約半分を占めるノンクリティカルレイヤの露光に最適化した本装置は、スキャナーと共通化された縮小倍率と露光領域、十分な解像度や高いスループットなど、トータルバランスとコストパフォーマンスに優れた露光機として、生産性の向上と製造ラインのトータル投資コストの低減に貢献し、好評を得ています。
今回発表の「NSR-SF200」は、この流れを受け、レンズスキャニング方式のArFステッパーの導入が見込まれる、90ナノメートル以降のデザインルールによる300ミリウェハ量産ラインで、ArFスキャナーとのミックス&マッチに適した世界初のKrFエキシマレーザ一括型スキャンフィールドステッパーです。この一括型KrFステッパーの広フィールド投影レンズは、ニコンが最先端ArFレンズで培った最新レンズ技術の採用により実現しました。
主な性能
| 解像度 | 150nm以下 |
|---|---|
| N.A.(開口数) | 0.63 |
| 光源 | KrFエキシマレーザ(波長248nm) |
| 縮小倍率 | 1/4倍 |
| 露光領域 | 26×33mm |
| アライメント精度 | 28nm以下(M+3σ) |
| スループット | 300mmウェハ毎時110枚以上 / 200mmウェハ毎時120枚以上 |
主な特長
- KrFで初のスキャンフィールド対応一括ステッパー
最先端のレンズ技術を駆使し、一括露光方式でありながら26×33ミリメートルというスキャニング方式ステッパーと同様の広い露光領域を実現。新開発の高N.A.(0.63)縮小投影レンズを搭載し、150ナノメートル以下の高解像度を達成しました。
- スキャナーとの最適なミックス&マッチ
レンズディストーションを大幅に低減(18ナノメートル以下)。さらに、アライメント精度も28ナノメートル以下を達成しました。スキャン方式のArFステッパーとのミックス&マッチにおいて優れたパフォーマンスを発揮します。
- 優れたコストパフォーマンス
300ミリウェハで、1時間あたり110枚以上のスループットを実現。ランニングコストは50%以下、CoO(コスト・オブ・オーナーシップ)は、同世代スキャナーに比べて45%以下を達成。優れたパフォーマンスでコスト低減に貢献します。
- CCDなどイメージセンサー製造に最適なツール
CCD製造において、もっとも影響のある照明均一性を向上しました。
さらにニコン独自の転写対策が適用可能です(オプション)。
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