超高N.A.レンズを搭載した高スループットArFスキャナーニコン縮小投影型露光装置 NSR-S306Cを来春から受注開始

株式会社ニコン（社長：吉田 庄一郎）は、超高N.A.レンズを搭載し、100ナノメートルルールの最先端デバイスの量産に対応する、レンズスキャン型（レンズスキャニング方式）ArF エキシマステッパー、ニコン縮小投影型露光装置 NSR-S306C（価格：未定）を開発し、来14(2002)年春から受注を開始いたします。

NSR-S306C は、ArFエキシマレーザ（波長193ナノメートル）に対応した世界初の超高 N.A.（N.A. 0.78）投影レンズを搭載し、φ200ミリウェハで１時間あたり135枚以上、φ300ミリウェハでは業界最高レベルの１時間あたり85枚以上の高スループットを誇ります。

開発の背景

IT 革命の根幹を担う、超 LSI の高集積化はとどまるところを知りません。今日では 128M DRAM の量産が開始され、更には 256M DRAM や 512M DRAM の量産に移行しようとしています。当社はこの時代の流れに対応し、平成7(1995)年4月に世界初のレンズスキャニング方式ステッパー NSR-S201A を発売。以後、当社のレンズスキャン型ステッパーは、世界中の半導体メーカーからその性能と信頼性に高い評価を得て、i（I） 線、KrF エキシマレーザ、ArF エキシマレーザの各機種を合わせて、これまでに400台以上の出荷実績を達成しております。

来年春より受注を開始する NSR-S306C は、世界初の超高 N.A.（N.A. 0.78）投影レンズの搭載で、120ナノメートルから100ナノメートルへと加速するデザインルールの微細化要求に応えるとともに、ライン構築が活発化するφ300ミリウェハで、業界最高レベルの１時間あたり85枚以上の高スループットを実現しています。

主な特長

• 超高 N.A.（0.78）投影レンズを搭載

  世界初の N.A.0.78 という超高 N.A. 縮小投影レンズを搭載、120ナノメートル以下の解像度を実現。また、変形照明技術を用いることで、100ナノメートル以下の解像度も達成、微細化の進む次世代 DRAM や MPU などの量産に対応。

• スループット（処理能力）と装置安定性を更に向上

  新開発のボディを採用し、振動や温度などの装置への影響を最小限に抑制。スループットも更に向上し、現在主流のφ200ミリウェハで135枚 / 時以上（当社従来機種比、約10% 向上）、ライン構築が活発化するφ300ミリウェハでは、業界最高レベルの85枚 / 時以上（弊社従来機種比、約 9 % 向上）を達成。

主な仕様