高スループット & 卓越した検出感度を実現ニコン自動マクロ検査装置「AMI-2000」を平成13(2001)年3月1日発売

開発の背景

本商品は、全ウェハの Z 軸方向のパターン変動を高精度・高速度検出することで、露光装置へのフィードバックを早期に可能とし、より効率的なプロセス管理を実現する自動マクロ検査装置です。

ニコンの半導体製造装置・検査装置分野における豊富な実績とノウハウを集約し、オペレータによる目視マクロ検査の自動化を実現するだけではなく、マクロ検査の精度向上や検査基準の定量化・明確化を図り、歩留まりの改善に貢献いたします。

また、ウェハ全面の一括検査を実現することにより、自動欠陥検査としてはきわめて高いスループット（150 枚/時以上）を達成し、ウェハ全数検査を可能としました。

主な特長

• 高い検出感度

  ニコン独自の回折光受光システムで、露光機のデフォーカス、レジスト塗布ムラ等のZ 軸方向のパターン変動を高感度で検出。また、ニコン独自のアルゴリズムにより、最上層パターンから反射された回折光を的確に識別し、マクロ検査において問題となる下地パターンの欠陥との識別が可能。

• ウェハ全面一括検査による高スループット

  ウェハ全面の一括検査を実現し、自動欠陥検査としてはきわめて高いスループット（150 枚 / 時以上）を達成、ウェハ全数検査を可能に。

• プロセス変動に対応した AI 画像処理

  定評のあるニコンAI 画像処理技術を半導体検査分野に投入。ニコン独自の「良品学習機能」により各工程の良品範囲をその特徴量として捉え認識。これにより、プロセス変動に対する高いロバストネス性を有し、安定した検査結果を提供。

• ADC （自動欠陥分類）を含むオートリワーク判定

  ADC（Automatic Defect Classification）機能に加え、ユーザー固有のリワーク判定基準を工程ごとにレシピ設定可能。ウェハ / ロット単位でのリワーク判定のオート化を実現。

主な仕様