φ300mmウェハ対応のウェハ外観検査装置のニュー・スタンダードニコン ウェハ外観検査装置 OPTISTATION-7を12月1日販売開始

開発の背景

1982年の「ウェハ検査顕微鏡装置 オプチステーション」発売以来、ニコン「OPTISTATION シリーズ」は、ウェハの外観検査装置のスタンダードとして全世界の半導体製造メーカーから高い評価を頂き、これまでに約 2,300 台の累積販売を記録しております。

近年、ICパターンの微細化と多層化が進展する一方で、生産ラインにおける多品種の混在化が進み、生産性向上を目指したウェハの大口径化の要求も日増しに高まっています。

今回発表の「ウェハ外観検査装置OPTISTATION-7」は、φ300mmウェハ時代を迎えるにあたり、単に大口径化に対応するだけでなく、多様化するユーザーニーズに応えるために開発した高速・高性能の最新鋭ウェハ外観検査装置です。

主な特長

• ラインレイアウトのさまざまな要求に柔軟に応える、ユニット分離設計

  主要な構成ユニットを独立設計にしました。これにより、工場のラインレイアウトに合わせて、ウェハカセット（キャリア）の装着方向を、前面 / 側面 / 背面の自由な方向に選択できます。納入後のレイアウト変更にも対応可能。

• リアルタイムコンフォーカル顕微鏡ユニット搭載可能（オプション）

  従来機「OPTISTATION-V（ファイブ）」からの定評ある、専用タンデム型コンフォーカル顕微鏡※1 ユニットの搭載が可能。露光工程のウェハ検査の新たなる標準顕微鏡として、よりシャープな見え味を実現。

• 高スループット＆クリーン搬送

  ウェハのメカニカル搬送系にはダブルアーム方式を採用。従来機を上回るスループットを実現。また、ウェハ側面非接触式のプリアライメント機構や、シールド密封方式の対物レンズレボルバの標準装備などにより、パーティクル対策にも配慮。さらに、ミニエンバイロメント※2 対応（オプション）をも考慮した設計思想で、多様なクリーン化ニーズに応えます。

• ファインアライメント機構で、高機能レビューへ対応

  新設計の高精度アライメント機能（オプション）の搭載が可能です。自動欠陥検査や SEM（走査型電子顕微鏡）等を用いたレビュー検査※3 のベース装置（ステーション）としても高い性能を発揮。

• ユーザーフレンドリーな操作環境

  「OPTISTATION-V（ファイブ）」の設計思想＝オペレータが自然な姿勢で操作できる様、人間工学に基づいたエルゴノミックデザインを継承。また、顕微鏡光学系の諸操作を電動化（一部オプション）し、基本操作もマウス操作でおこなえるようにするなど、よりユーザーフレンドリーな操作環境を実現。

• 充実の支援ソフトウェア群

  最新のパソコン拡張性を反映し、GEM（General Equipment Management）※4 対応のオンライン、欠陥レビュー、マッピング等の各種アプリケーションを充実。また、CCTV を装着してビデオキャプチャによる画像取込みもおこなえます。メンテナンスを考慮したオンライン装置診断機能の搭載も可能。

• 注※1「タンデム型コンフォーカル顕微鏡」：無数の微小な孔（ピンホール）を螺旋状の配列で穿った円盤（ニッポウディスク）を顕微鏡の一次像面上で高速回転し、それらの孔を通して試料にスポット光を照射して走査し、試料からの反射像を同じ孔を通して観察する方式のコンフォーカル（共焦点）顕微鏡。光学顕微鏡とほぼ同様の操作性で、より光学理論値に近い高解像度をリアルタイムで実現できると共に、セクショニング効果（＝焦点深度が浅く、コントラストの高い像を得ることできるので多層構造ICの任意の層を検鏡可能）で欠陥認識などに威力を発揮。
• 注※2「ミニエンバイロメント」：装置本体にクリーンユニットを搭載して、クリーンエンバイロメント（超清浄な環境）を実現する構成。
• 注※3「レビュー検査」：自動欠陥検査装置そしてSEM等から得た欠陥座標を「OPTISTATION」上で再現し、欠陥内容等を分類、再確認する検査。
• 注※4「GEM」：半導体製造装置で使用される通信規格のひとつ。

主な仕様