精機カンパニー

事業概況

主要製品

半導体露光装置／液晶露光装置

業績推移（連結）

市場環境と事業動向

半導体関連は、一部デバイスメーカーの設備抑制による市況の悪化が懸念され、液晶関連は、大型パネル向けの設備投資が冷え込む一方、中小型パネル向けの設備投資は引き続き堅調を維持するものと見込まれます。

平成24年3月期第2四半期決算関係データ（2011/11/4）

ニコンの露光装置販売台数と予想

• 半導体露光装置機種別
• 液晶露光装置世代別

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事業戦略

カンパニープレジデントに聞く

Q2:半導体露光装置において最新モデル「NSR-S620D」を中心とする取り組みは？

A2:

半導体露光装置では、ArF液浸スキャナーが圧倒的に高い付加価値を提供することができるため、その性能とシェアを高めることが最優先の課題です。

2012年3月期は、ArF液浸スキャナーの販売台数は若干減少する見通しですが、従来モデル「NSR-S610C」から競争力の高い最新モデルの「NSR-S620D」への移行が進み、ArF液浸スキャナーの大半を占めるようになります。これにより、この分野での収益性が飛躍的に改善し、精機カンパニー全体での増収および大幅増益に大きく貢献できると見込んでいます。

「NSR-S620D」に関しては、すでに2011年2月の時点で、1時間当たり200枚のウェハ処理能力、重ね合わせ精度2.5nmを達成したほか、お客様のプロセスに合わせた条件下において1日当たり3,000枚超のウェハ処理を実現しました。このように、お客様のニーズに対応しながら、性能を高めていくことができれば、今後はさらに高い収益を追求できると考えます。

また、現在、生産工程でのリードタイム短縮にも取り組んでいます。具体的には、これまで12ヵ月かかっていたArF液浸スキャナーの製造リードタイムを、2012年3月期中に6ヵ月に半減させます。これにより、在庫リスクの軽減とお客様ニーズへの迅速な対応を両立できるとともに、コストダウンによる収益力強化につながります。

今後の製品戦略に関しては、22nm世代までは液浸ダブルパターニングが現実解で、16nm世代でも液浸ダブルパターニングの拡張技術を有力な候補と見ており、これらの開発に注力します。16nm世代でのもう１つの候補であるEUVL^※2については、当面は最も重要な光学系の開発に絞る計画です。16nm世代の半導体製造は、2016年頃に始まり、本格的な量産は2018～2019年頃になると見ています。

• ※2EUVL技術：極端紫外線リソグラフィー（Extreme Ultra Violet Lithography）は波長の短い極端紫外光を用いた次世代技術。

Q3:液晶露光装置の市場動向およびニコンの販売見込みは？

A3:

液晶露光装置市場（台数ベース）は、2012年3月期については前年比ほぼ横ばいの見通しですが、スマートフォンやタブレット端末用パネルの需要は引き続き強く、中小型の高精細パネル用露光装置が主流を占めると見ています。

当社は、この分野の装置を得意としており、さらなる高性能を求めるニーズにも十分に対応することが可能です。そのため、2012年3月期は、当社の高精細・中小型パネル用装置の販売台数が大幅に増加すると見込んでいます。

一方、大型液晶テレビ向け装置市場は、2012年3月期はこれまでの急成長に対する反動が見込まれています。しかし、2013年3月期以降は、テレビの買い換え需要などによりさらなる大型化が進み、装置需要が再び活性化する可能性もあると考えます。

Q4:精機カンパニーが持つ強みや可能性とは？

A4:

2011年3月期には営業利益で600億円以上もの改善で黒字化を果たし、2012年3月期も大きな増益を見込んでいます。しかし、この程度の改善で満足しているわけではありません。ニコンには、さらなる収益拡大を達成するのに十分なポテンシャルがあります。

たとえば、当社のArF液浸スキャナーでは、ステージシステムにシングルステージからタンデムステージという新しい技術を採用したことにより、処理枚数と重ね合わせ精度の向上を両立できるという優位性があります。また、液晶露光装置には、マルチレンズ方式と呼ぶ技術の採用により、解像度を落とすことなくガラスプレートのさらなる大型化に容易に対応できるという優位性があります。こうした優位性を最大限に引き出しながら、競争力のいっそうの強化に取り組んでいきます。